井式真空炉（又名：坑式真空炉、立式真空炉）

适用工艺： 
井式/立式双工位真空炉真空炉主要用于半导体器件烧结，封焊，太阳能电池片烘干、焊接及金属化管壳等气密性封装，玻璃容器的烧结及各种零件在氢氮保护下进行的工艺，也多用于机械密封的退火工艺。
特点：
采用水冷/气冷方式进行加热容器冷却，降温速度快；加热容器小，升温速度快。特别适用于小批量零部件快速加温、冷却后取出，因升温速度快，无需预热，设备不用即可关闭，节能省电。
井式真空炉主要技术参数  
真空室工位数：1-3位
真空度：5x10-6Pa/4X10-2Pa
工作温度：0-1320℃  
充气的最高压强：0.5Mpa（可控）  
不锈钢内胆：Φ150-Φ350x1300(用户自定)  
仪表精度：±1℃/24h
控温方式：触摸屏自动控制/三点三段采用进口日本高可靠控温器  
控温曲线：9段升降温/999小时  
工作方式：自动或手动自由转换  
正压、负压均采用数字显示表/电阻式压力传感器  
多工位交替/同时工作，加压台可以自动升降（选） 
人机界面：触摸屏/工控机 

友情提示：以上产品均为非标类产品，均可根据客户要求进行定制，因每家要求各不相同，

因此产品只以一张图片举例，并未全部列出。本公司兼营进口设备仿制业务，欢迎来电垂询。

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